宜兴市新材料高温技术装备研究中心

苏州大学产学研合作基地

锂电池材料装备研发中心

对外交流

燃气梭式窑

一、概述 梭式窑属于间歇式窑炉,既可满足连续化大生产,又能用于小规模间断性生产,生产方式和时间安排非常灵活,是近年来许多陶瓷和耐火材料生产厂家采用较多的热工设备。二、主要技术参数序号项　目规格及性能参数1容积　0.3～30 m32最高使用温度　200～1700℃3能源　电热、燃气或燃油4烧嘴　高速等温（调温）烧嘴5烧嘴数量　由窑炉容积确定6控温方式　自动或手动控温 ，可选远程控制7内衬材料　轻型纤维材料或耐火砖砌体8结构型式

燃气隧道窑

一、概述 隧道窑属于连续式窑炉,可满足连续化大规模大生产,是近年来许多新型材料和耐火材料生产厂家采用较多的热工设备。二、主要技术参数项目单位QSD燃气隧道窑系列QSD28米高温QSD50米QSD80米炉膛尺寸mm280001500600500001500800800001800600窑车大小（长宽）mm12006001200120015001500设计温度℃165013501100使用温度℃160012501000喷枪数量支244060温区数量个51015温度均匀度℃8912.5恒温区温度波动量℃222热

燃气推板窑

一、概述推板窑属于连续式窑炉,可满足连续化大生产,是近年来许多新型材料和耐火材料生产厂家采用较多的热工设备。二、主要技术参数项目单位QTB燃气推板窑系列QTB13米高温QTB24米单孔双推板中温QTB24米单孔三推板中温炉膛尺寸mm1300028030024000890400240001300400推板大小mm240240503403403534034035设计温度℃1730（齿科锥倒温度）13501200使用温度℃165012501100喷枪数量支21216温区数量个255温度均匀度℃555恒温区温度波

燃气辊道窑

该辊道窑是一种连续式生产流水线作业窑炉，本窑炉在机构上采用了合理的分段制作，结合国内外的新型先进技术，现场安装连接方便，确保了质量的精度，缩短了安装时间，双层辊道窑使用更加节能，低能耗、高产量，占地面积小，一条辊道窑等于二条窑炉的产量，主要针对陶瓷产品高温烧结，是企业追求大产能生产时的可靠窑型天然气双层辊道窑简略参数窑炉总长：150m 预热带长： 32m烧成带长： 68m 冷却带长： 50m单元长度： 2.5m窑内宽 ：

回转窑

一、概述本回转窑采用燃气加热方式，主要用于化工粉体、稀土材料、矿石粉体等粉体材料的烘干及煅烧。二、主要技术参数1炉膛尺寸12000长/2000宽/1100高可根据客户要求定制2转筒尺寸~Ø120015000 mm可根据客户要求定制3额定工作温度800℃可根据客户要求定制4使用常温≦700℃5燃料天燃气6烧成方式隔焰燃烧7烧成气氛氧化焰8窑体外表温升75℃9排烟方式墙两侧底部排烟10高速烧嘴数量10台11温度控制检测点炉测4点控温12炉膛温度均匀

1200℃迷你型管式炉

1200℃迷你型管式炉产品简介这款迷你型管式炉体积小巧，性价比极高，而且可以满足绝大部分气氛环境下的实验要求，密封性可以达到10-4Pa。主要参数型号KTF1200-MiNi25KTF1200-MiNi50最高温度1200℃1200℃工作温度1150℃1150℃升温速率10℃/min10℃/min加热区长度200mm200mm恒温区长度100mm100mm石英管管径25mm50mm控温方式30段PID程序控温控温精度1℃加热元件掺钼铁铬铝加热丝功率220V/1.2kw炉体尺寸380*320*430mm

旋转管式炉

旋转管式炉产品简介旋转管式炉是指炉管通过电机驱动实现360正反转，让内部的粉状或颗粒状样品能够充分均匀地与气氛反应和烧结。该炉管采用石英材质，中间样品区直径大两端小，样品区设计有挡板拨片让样品能够不断地在内部搅拌均匀。法兰采用旋转接头通入气体。主要参数型号QJ1200-XZG60QJ1200-XZG100QJ1200-XZG150最高温度1200℃1200℃800℃工作温度1100℃1100℃800℃升温速率10/min10/min10/min加热区长度440mm440mm1200mm恒温区

CVD系统

CVD系统产品简介常规CVD系统由管式炉、流量混合器、真空体统三部分组成。改系统可以满足绝大部分气氛或真空环境下的小样品试验。每个部分都可以单独匹配成不同部件以满足不同的实验条件，如流量计可以选择浮子流量计或质量流量计，单通道或多通道，管式炉可以选择1200℃/1500℃/1700℃单温区或者多温区炉子。主要参数型号QJ1200-CVD60QJ1700-CVD60工作温度1100℃1600℃升温速率10℃/min10℃/min气体预热区无200mm加热区长度200/440

PECVD系统

PECVD系统产品简介为了降低化学沉积温度，利用了等离子体的活性来促进反应，这种CVD系统称之为等离子体增强型化学气相沉积系统（PECVD），该设备可以根据气体的种类数量、射频功率大小、气体是否需要预热、沉积所需温区随意定制。主要参数型号QJ1200-PE60QJ1200-PE60Y工作温度1000℃1000℃升温速率10℃/min10℃/min气体预热区无200mm沉积区长度200mm440mm恒温区长度100mm220mm石英管管径50/60mm50/60/80/100mm控温方式30段PID程序

1400℃箱式炉

1400℃箱式炉产品简介以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电30段程序控温系统，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能能有点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测用的理想产品。主要参数型号KSF-4-14KSF-6-14KSF-8-14KSF-10-14KSF-16-14最高温度1400℃工作温度＜1350℃升温速率＜20℃/min炉膛尺寸200*150*150mm300*200*200mm400*250*250mm400*3

1800℃箱式炉

1800℃箱式炉产品简介以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电30段程序控温系统，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能能有点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测用的理想产品。主要参数型号KSF-4-18KSF-6-18KSF-10-18KSF-14-18KSF-28-18最高温度1800℃工作温度1700℃升温速率＜20℃/min炉膛尺寸200*150*150mm300*200*200mm400*250*250mm400*30

1650℃钼丝箱式气氛炉

1650℃钼丝箱式气氛炉KSFQ系列箱式气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，可适用高氢（纯氢）、氨分解等其它还原性气氛。根据不同的要求以钼丝为加热元件，控温系统采用日本岛电仪表，采用双层壳体结构，该炉具有温场均匀、表面温度低、升降温速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结的理想产品。主要参数型号炉膛尺寸L*W*H功率额定温度加热元件电压升温速率外形尺寸L*W*HKSF-4-16Q200*150

1650℃箱式气氛炉

1650℃箱式气氛炉KSFQ系列箱式气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，可适用氧化性气氛、惰性气氛等多种类型。根据不同的要求以硅钼棒为加热元件，控温系统采用日本岛电仪表，采用双层壳体结构，该炉具有温场均匀、表面温度低、升降温速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结的理想产品。主要参数型号炉膛尺寸L*W*H功率额定温度加热元件电压升温速率外形尺寸L*W*HKSF-4-16Q200*150*150mm4K

辊道箱式气氛炉

辊道箱式气氛炉可模拟工业化辊道炉的烧结环境，有助于实验成果转化。适用于锂电正负极材料、高端粉体材料等在空气、氧气、氮气下的高温烧结。主要技术参数：使用温度：RT～1000℃额定温度：1200℃匣钵尺寸：330L330W100H mm（用户自备）堆放方式：2列2层炉膛尺寸：约490L950W260H mm外型尺寸：约1400L2000W2000H mm炉膛材料：氧化铝空心球砖（氧化铝含量99%）+1260型进口陶瓷纤维顶部结构：拱顶结构加热元件：硅碳棒外套陶瓷保护套

高温真空气氛炉

高温真空气氛炉产品简介GZ30采用不锈钢罐式全包围密封结构，将整个炉膛密封在罐体中，真空度可达10-2Pa以下，自带数显真空计和真空系统，无需水冷。主要参数型号QJ1700-GZ22QJ1700-GZ16最高温度1700℃1700℃工作温度1600℃1600℃升温速率10℃/min10℃/min炉膛尺寸220*220*260mm160*160*160mm容积12.5L4.1L真空度10-2Pa10-2Pa控温方式30段PID程序控温30段PID程序控温控温精度1℃1℃加热元件高纯硅钼棒高纯硅钼棒功率220

井式真空气氛炉

井式真空气氛炉产品简介真空气氛炉主要用在真空或气氛环境中，它的容积比管式炉大，取放样品较为简便。JZ20型为井式真空炉，内胆采用石英桶密封结构，结构简单密封性好。主要参数型号QJ1200-JZ20最高温度1200℃工作温度1100℃升温速率10℃/min炉膛尺寸180*180*210mm容积5L真空度100Pa控温方式30段PID程序控温控温精度1℃加热元件掺钼铁铬铝加热丝功率220V/3.5kw炉体尺寸460*400*680mm